Kinetic Model of Si Oxidation at HfO2/Si Interface with Post Deposition Annealing

H.Shimizu H.Shimizu, K.Kita K.Kita, K.Kyuno K.Kyuno, A.Toriumi A.Toriumi, Kentaro Kyuno

研究成果: Article

27 引用 (Scopus)
元の言語English
ジャーナルJapanese Journal of Applied Physics
44
出版物ステータスPublished - 2005 4 1

これを引用