Kinetic Model of Si Oxidation at HfO2/Si Interface with Post Deposition Annealing

H.Shimizu H.Shimizu, K.Kita K.Kita, K.Kyuno K.Kyuno, A.Toriumi A.Toriumi, Kentaro Kyuno

研究成果: Article査読

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本文言語English
ジャーナルJapanese Journal of Applied Physics
44
出版ステータスPublished - 2005 4 1

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