本文言語 | English |
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ジャーナル | Japanese Journal of Applied Physics |
巻 | 44 |
出版ステータス | Published - 2005 4月 1 |
Kinetic Model of Si Oxidation at HfO2/Si Interface with Post Deposition Annealing
H.Shimizu H.Shimizu, K.Kita K.Kita, K.Kyuno K.Kyuno, A.Toriumi A.Toriumi, Kentaro Kyuno
研究成果: Article › 査読
30
被引用数
(Scopus)