Kinetic model of Si oxidation at HfO2/Si interface with post deposition annealing

Haruka Shimizu, Koji Kita, Kentaro Kyuno, Akira Toriumi

研究成果: Article査読

29 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Kinetic model of Si oxidation at HfO2/Si interface with post deposition annealing」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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