Low temperature plasmaless etching of silicon dioxide film using chlorine trifluoride gas with water vapor

Makoto Saito, Yoshinori Kataoka, Tetsuya Homma, Takao Nagatomo

研究成果: Article査読

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フィンガープリント

「Low temperature plasmaless etching of silicon dioxide film using chlorine trifluoride gas with water vapor」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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