| 本文言語 | English |
|---|---|
| ページ（範囲） | 64-65 |
| ジャーナル | Proc. 2010 International Symposium on VLSI Technology, Systems and Applications |
| 出版ステータス | Published - 2010 4 26 |
Material and Process Challenges for Interconnects in Nanoelectronics Era (Invited)
研究成果: Article › 査読
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| 本文言語 | English |
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| ページ（範囲） | 64-65 |
| ジャーナル | Proc. 2010 International Symposium on VLSI Technology, Systems and Applications |
| 出版ステータス | Published - 2010 4 26 |