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Mechanical and field emission properties of CGed Si(C,N) films synthesized by PECVD from HMDS precursor
Y. S. Li,
H. Kiyono
, S. Shimada, X. Lu, A. Hirose
研究成果
:
Article
›
査読
8
被引用数 (Scopus)
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「Mechanical and field emission properties of CGed Si(C,N) films synthesized by PECVD from HMDS precursor」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Engineering & Materials Science
Plasma enhanced chemical vapor deposition
100%
Field emission
90%
Crystalline materials
24%
Transmission electron microscopy
24%
Plasmas
21%
Amorphous films
19%
Scanning electron microscopy
18%
Gas supply
14%
X ray photoelectron spectroscopy
14%
Nanocomposites
12%
Microhardness
11%
X ray diffraction
11%
Flow rate
8%
Liquids
7%
Hot Temperature
5%
Chemical Compounds
Field Emission
70%
Liquid Film
34%
Thermal Plasma
14%
Hexamethyldisiloxane
14%
Amorphous Material
13%
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition
12%
Scanning Transmission Electron Microscopy
11%
Deposition Process
10%
Microhardness
10%
Flow Kinetics
7%
X-Ray Photoelectron Spectroscopy
7%
Nanocomposite
6%
Plasma
6%
Liquid
5%
Gas
5%
X-Ray Diffraction
4%