Mechanism of Vfb shift in HfO2 gate stack by Al diffusion from (TaC)1-xAlx gate electrode

T. Nabatame, M. Kimura, H. Yamada, A. Ohi, T. Ohishi, T. Chikyow

研究成果

フィンガープリント

「Mechanism of Vfb shift in HfO2 gate stack by Al diffusion from (TaC)1-xAlx gate electrode」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science