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Novel in-situ passivation of MoCl
5
doped multilayer graphene with MoO
x
for low-resistance interconnects
K. Kawamoto, Y. Saito, M. Kenmoku,
K. Ueno
機能制御システム専攻
電子工学科
電気電子情報工学専攻
研究成果
:
Conference contribution
3
被引用数 (Scopus)
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「Novel in-situ passivation of MoCl
5
doped multilayer graphene with MoO
x
for low-resistance interconnects」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Engineering & Materials Science
Passivation
100%
Graphene
97%
Multilayers
79%
Molybdenum oxide
74%
Raman spectroscopy
55%
Molybdenum
48%
Doping (additives)
46%
Air
22%
Temperature
16%