Optical characteristics of SiO2 formed by plasma-enhanced chemical-vapor deposition of tetraethoxysilane

K. Ishii, Y. Ohki, H. Nishikawa

研究成果: Article査読

20 被引用数 (Scopus)
本文言語English
ページ(範囲)5418-5422
ジャーナルJournal of Applied Physics
76
出版ステータスPublished - 1994 11月 1

引用スタイル