Optical characteristics of SiO2 formed by plasma-enhanced chemical-vapor deposition of tetraethoxysilane

K. Ishii, Y. Ohki, H. Nishikawa

研究成果: Article

20 引用 (Scopus)
元の言語English
ページ(範囲)5418-5422
ジャーナルJournal of Applied Physics
76
出版物ステータスPublished - 1994 11 1

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