Oxidation-Induced Damages on Germanium MIS Capacitors with HfO2 Gate Dielectrics

K. Kita, M. Sasagawa, K. Tomida, K. Kyuno, A. Toriumi

研究成果: Article

元の言語English
ページ(範囲)292-293
ジャーナルExtended Abstracts of 2003 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM)
出版物ステータスPublished - 2003 9 1

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