Permittivity Increase of Yttrium-Doped HfO2 through Structural Phase Transformation

K. Kita, K. Kyuno, A. Toriumi

研究成果: Article査読

本文言語English
ジャーナル35th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference (SISC)
出版ステータスPublished - 2004 12月 1

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