Photoresist ashing process using carbon tetrafluoride gas plasma with ammonia gas addition

Makoto Saito, Hideo Eto, Kayoko Omiya, Tetsuya Homma, Takao Nagatomo

研究成果: Article査読

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フィンガープリント

「Photoresist ashing process using carbon tetrafluoride gas plasma with ammonia gas addition」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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