Plasma-induced damage of silicon thermal oxides in the VLSI process

H. Nishikawa, E. Watanabe, D. Ito, F. Tochikubo

研究成果: Article査読

本文言語English
ページ(範囲)17-24
ジャーナルMemoirs of Faculty of Engineering
出版ステータスPublished - 1996 1 1

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