Prediction of pressure dependent rate constant for the reaction, SiH4(g)→SiH3(g)+H(g), using RRKM theory aided by ab-initio MO

Nagahiro Saito, Mitsuhito Hirota, Takahiro Ishizaki, Akio Fuwa

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抄録

The pressure dependent rate constant for the reaction, SiH4(g)→SiH3(g)+H was predicted using the Rice-Ramspger-Kassel-Marcus theory aided by Ab-initio molecular orbital (MO). It was calculated under conditions in which the temperatures were from 600 to 1500 K intervals of 100 K. The Arrhenius type rate expression was shown.

本文言語English
ページ(範囲)520-526
ページ数7
ジャーナルNippon Kinzoku Gakkaishi/Journal of the Japan Institute of Metals
63
4
DOI
出版ステータスPublished - 1999
外部発表はい

ASJC Scopus subject areas

  • 凝縮系物理学
  • 材料力学
  • 金属および合金
  • 材料化学

フィンガープリント

「Prediction of pressure dependent rate constant for the reaction, SiH<sub>4</sub>(g)→SiH<sub>3</sub>(g)+H(g), using RRKM theory aided by ab-initio MO」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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