Preparation of thin ferrite films on silicon using RF sputtering

M. R. Koblischka, M. Kirsch, M. Brust, A. Koblischka-Veneva, U. Hartmann

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抄録

Thin-films of Ni xZn 1-x:Fe 2O 4 [(Ni,Zn)-ferrite] are grown by means of RF sputtering on Si(100) and (111) substrates, corresponding to the orientation of Si cantilevers for AFM/MFM measurements. We Find that the ferrite can be sputtered directly onto the Si surfaces, but an additional annealing step is required to obtain a purely polycrystalline, soft magnetic film. The inicrostructure of the films is investigated employing transmission electron microscopy, electron baclcscatter diffraction and magnetic force microscopy.

本文言語English
ページ(範囲)1783-1786
ページ数4
ジャーナルPhysica Status Solidi (A) Applications and Materials Science
205
8
DOI
出版ステータスPublished - 2008 8 1
外部発表はい

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  • 凝縮系物理学
  • 表面および界面
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フィンガープリント

「Preparation of thin ferrite films on silicon using RF sputtering」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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