本文言語 | English |
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ジャーナル | Applied Physics Letters 89 |
出版ステータス | Published - 2006 11月 1 |
Reversible creation and annihilation of a local leakage path in HfO2/GeOx stacked gate dielectrics: A direct observation by ultrahigh vacuum conducting atomic force microscopy
K.Yamamura K.Yamamura, K.Kita K.Kita, A.Toriumi A.Toriumi, K.Kyuno K.Kyuno, Kentaro Kyuno
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