本文言語 | English |
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ページ(範囲) | 4930-4935 |
ジャーナル | Journal of Applied Physics |
巻 | 86 |
出版ステータス | Published - 1999 11月 1 |
Seed layer dependence of room-temperature recrystallization elecroplated copper films
K.Ueno K.Ueno, T.Ritzdorf T.Ritzdorf, S.Grace S.Grace, Kazuyoshi Ueno
研究成果: Article › 査読
65
被引用数
(Scopus)