Si-O-Si strained bond and paramagnetic defect centers induced by mechanical fracturing in amorphous SiO2

S. Munekuni, N. Nohguchi, H. Nishikawa, Y. Ohki, K. Nagasawa, Y. Hama

研究成果: Article査読

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本文言語English
ページ(範囲)5054-5062
ジャーナルJournal of Applied Physics
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出版ステータスPublished - 1991 11 1

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