本文言語 | English |
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ページ(範囲) | 80-85 |
ジャーナル | Thin Solid Films |
巻 | 235 |
出版ステータス | Published - 1993 11月 25 |
Stability of A New Polimide Siloxane Film as Interlayer Dielectrics of ULSI Multilevel Interconnections
T.Homma T.Homma, Y.Kutsuzawa Y.Kutsuzawa, K.Kunimune K.Kunimune, Y.Murao Y.Murao, Tetsuya Homma
研究成果: Article › 査読
20
被引用数
(Scopus)