Stability of A New Polimide Siloxane Film as Interlayer Dielectrics of ULSI Multilevel Interconnections

T.Homma T.Homma, Y.Kutsuzawa Y.Kutsuzawa, K.Kunimune K.Kunimune, Y.Murao Y.Murao, Tetsuya Homma

研究成果: Article査読

20 被引用数 (Scopus)
本文言語English
ページ(範囲)80-85
ジャーナルThin Solid Films
235
出版ステータスPublished - 1993 11 25

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