Stable Observation of the Evolution of Leakage Spots in HfO2/SiO2 stacked structures

K. Kyuno, K. Kita, A. Toriumi

研究成果: Article

元の言語English
ページ(範囲)788-789
ジャーナルExtended Abstracts of 2004 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM)
出版物ステータスPublished - 2004 9 1

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