Stable silica membranes prepared by using a counter diffusion chemical vapor deposition for high temperature hydrogen separation

Mikihiro Nomura, Surag Gopalakrishnan, Hitoshi Aida, Takashi Sugawara, Shin-ichi Nakao

研究成果: Article

元の言語English
ページ(範囲)101-104
ジャーナルDefault journal
出版物ステータスPublished - 2005 10 10

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