Stable silica membranes prepared by using a counter diffusion chemical vapor deposition for high temperature hydrogen separation

Mikihiro Nomura, Surag Gopalakrishnan, Hitoshi Aida, Takashi Sugawara, Shin-ichi Nakao

研究成果: Article査読

本文言語English
ページ(範囲)101-104
ジャーナルDefault journal
出版ステータスPublished - 2005 10月 10

引用スタイル