Structural changes in a resist resulting from plasma exposure during the reactive ion etching process

I. Tohno, M. Saito, K. Omiya, Y. Kataoka

研究成果: Article査読

6 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Structural changes in a resist resulting from plasma exposure during the reactive ion etching process」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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