Structure and electrical properties of HfLaOx films for an amorphous high-k gate insulator

Y.Yamamoto Y.Yamamoto, K.Kita K.Kita, K.Kyuno K.Kyuno, A.Toriumi A.Toriumi, Kentaro Kyuno

研究成果: Article査読

本文言語English
ジャーナルApplied Physics Letters
89
出版ステータスPublished - 2006 4 1

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