Suppression of electromigration early failure of Cu/Porous low-k interconnects using dummy metal

Yumi Kakuhara, Shinji Yokogawa, Masayuki Hiroi, Toshiyuki Takewaki, Kazuyoshi Ueno

研究成果: Article査読

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フィンガープリント

「Suppression of electromigration early failure of Cu/Porous low-k interconnects using dummy metal」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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