本文言語 | English |
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ジャーナル | 6th International Coference on Atomic Layer Deposition (Seoul, Korea) |
出版ステータス | Published - 2006 7月 25 |
Thermal stability of ALD-grown Ru/HfON/Si capacitors
H.Tabata H.Tabata, K.Segawa K.Segawa, M.Kadoshima M.Kadoshima, Y.Nunoshige Y.Nunoshige, A.Ogawa A.Ogawa, T.Nabatame T.Nabatame, H.Satake H.Satake, T.Ohishi T.Ohishi, A.Toroumi A.Toroumi, Tomoji Oishi
研究成果: Article › 査読