Thermal stability of ALD-grown Ru/HfON/Si capacitors

H.Tabata H.Tabata, K.Segawa K.Segawa, M.Kadoshima M.Kadoshima, Y.Nunoshige Y.Nunoshige, A.Ogawa A.Ogawa, T.Nabatame T.Nabatame, H.Satake H.Satake, T.Ohishi T.Ohishi, A.Toroumi A.Toroumi, Tomoji Oishi

研究成果: Article査読

本文言語English
ジャーナル6th International Coference on Atomic Layer Deposition (Seoul, Korea)
出版ステータスPublished - 2006 7 25

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