Ultra-low resistance direct contact Cu via technology using in-situ chemical vapor cleaning

Y.Tsuychiya Y.Tsuychiya, K.Ueno K.Ueno, V.M.Donnelly V.M.Donnelly, T.Kikkawa T.Kikkawa, Y.Hayashi Y.Hayashi, A.Kobayashi A.Kobayashi, A.Skiguchi A.Skiguchi, Kazuyoshi Ueno

研究成果: Article査読

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本文言語English
ページ(範囲)59-60
ジャーナル1997 Symposium on VLSI Technology Digest of Technical Papers
出版ステータスPublished - 1997 6 1

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