| 本文言語 | English |
|---|---|
| ページ（範囲） | 59-60 |
| ジャーナル | 1997 Symposium on VLSI Technology Digest of Technical Papers |
| 出版ステータス | Published - 1997 6月 1 |
Ultra-low resistance direct contact Cu via technology using in-situ chemical vapor cleaning
Y.Tsuychiya Y.Tsuychiya, K.Ueno K.Ueno, V.M.Donnelly V.M.Donnelly, T.Kikkawa T.Kikkawa, Y.Hayashi Y.Hayashi, A.Kobayashi A.Kobayashi, A.Skiguchi A.Skiguchi, Kazuyoshi Ueno
研究成果: Article › 査読
5
被引用数
(Scopus)