Uniform (111) textured Cu CVD on vacuum annealed Cu seed layer

K.Ueno K.Ueno, A.Sekiguchi A.Sekiguchi, A.Kobayashi A.Kobayashi, Kazuyoshi Ueno

研究成果: Article査読

14 被引用数 (Scopus)
本文言語English
ページ(範囲)119-121
ジャーナルProceedings of 1998 International Interconnect Technology Conference
出版ステータスPublished - 1998 6 1

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