Why are hydrogen ions best for MeV ion beam lithography?

Rattanaporn Norarat, Nitipon Puttaraksa, Mari Napari, A. R. Ananda Sagari, Mikko Laitinen, Timo Sajavaara, Peerapong Yotprayoonsak, Mika Pettersson, Orapin Chienthavorn, Harry J. Whitlow

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フィンガープリント

「Why are hydrogen ions best for MeV ion beam lithography?」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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